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이석희기사 모아보기)의 우시 공장 첨단화 계획에 차질이 생길 것이란 전망이 제기된 가운데 이석희 SK하이닉스 사장이 “(중국 내 EUV 장비 도입은) 아직 충분히 시간이 남아있는 문제”라고 답했다. 이 사장은 22일 오전 서울 삼성동 코엑스에서 열린 ‘제14회 반도체의 날’ 행사 참석 전 기자들과 만나 이 같이 밝혔다.
이 사장은 미국 정부의 중국 내 EUV 장비 반입 반대로 우시 공장 첨단화는 어렵게 된 것이 아니냐는 질문에 “1a(4세대) D램이 7월부터 국내 본사에서 양산을 시작했다”며 “(중국 공장에 EUV를 도입하는 건) 아직 시간이 많이 남은 얘기”라고 했다.
EUV 공정을 활용한 D램이 국내에서도 최근에야 양산된 만큼, 아직 국내 EUV 공정에 집중하고, 상대적으로 공정 수준이 낮은 중국 우시 공장에는 EUV 장비를 천천히 도입하겠다는 뜻으로 풀이된다.
앞서 로이터 통신은 지난 17일(현지시각) 백악관 관계자 및 복수의 소식통을 인용해 “SK하이닉스가 중국 장쑤성 우시 공장에 반도체 초미세공정 핵심인 극자외선(EUV) 노광장비를 배치하려는 계획이 미국 정부의 제동으로 좌초할 가능성이 제기된다”고 보도했다.
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이 사장은 인텔 낸드사업부 인수 진행 상황과 관련해 “중국 정부와 적극적으로 협조하면서 협업하고 있다”고 말했다. SK하이닉스의 인텔 낸드사업부 인수는 8개국에서 기업결합 승인 심사를 받아야 한다. 현재 중국 승인만 남겨둔 상태다.
앞서 노종원 SK하이닉스 최고재무책임자(CFO)는 지난달 열린 3분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 “(다른 국가에서) 무조건부 승인을 내준 것을 보면, 본 합병 건이 메모리 특히 낸드플래시에 있어 여러 가지 경쟁 구도를 제한하는 요인은 없다고 판단된다”며 “조금 늦어지고 있지만, 중국 정부도 합리적인 판단으로 연내 승인해 줄 것으로 기대하고 있다”며 중국 승인을 기대한 바 있다.
정은경 기자 ek7869@fntimes.com
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