이날 이재용닫기이재용기사 모아보기 삼성전자 부회장은 직접 V1 라인을 방문해 임직원들을 격려했다.
앞서 이 부회장은 지난해 4월30일, 2030년까지 시스템반도체에 총 133조원을 투자해 세계 1위 기업으로 거듭나겠다는 비전을 발표한 바 있다. 당시 문재인 대통령도 참석해 "적극 돕겠다"고 화답했다.
TSMC는 ArF(불화아르곤)을 이용한 7나노 반도체 양산을 삼성전자보다 앞서 시작했다. EUV는 ArF 보다 한 세대 앞선 초미세공정 기술이다. 따라서 EUV 전용라인인 V1은 삼성전자의 '반도체 비전 2030'을 실현하기 위한 핵심기지라는 평가다.
삼성전자는 V1에서 7나노 이하 반도체를 양산할 계획이다. 삼성전자는 올초 2019년 실적발표 컨퍼런스콜에서 "올해 7나노, 5나노 EUV 제품을 지속 확대하겠다"면서 "3나노 GAA 기술 개발에도 집중하겠다"고 밝혔다.
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