에스앤에스텍, 'EUV 전용 센터' 준공...블랭크마스크·펠리클 양산 준비 마쳐

[한국금융신문 정경환 기자] 에스앤에스텍은 경기도 용인 반도체 클러스터에 위치한 'EUV 전용 센터' 준공식을 15일 개최했다고 밝혔다.

이번에 준공한 EUV 전용 센터는 연면적 1만809㎡에 지하 1층~지상 5층 규모다. 2021년 7월에 착공한 것으로, 에스앤에스텍은 극자외선(EUV) 사업에 약 1000억 원을 투자했다.

이를 통해 에스앤에스텍은 EUV 블랭크 마스크(Blank Mask, 반도체 및 LCD·OLED 공정 핵심재료인 포토마스크의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크)와 펠리클(반도체 제조 공정에서 포토마스크를 보호하는 초박막 투명 필름)의 안정적 생산 및 고객 맞춤형 공급을 확대하고, 연구개발(R&D)과 양산을 유기적으로 연계해 기술 내재화와 글로벌 경쟁력 강화에 나설 계획이다.

회사 관계자는 “용인 거점 확보는 고객사와의 거리를 단축해 공급 안정성과 협력 효율성을 높이는 동시에 신규 고객 창출에 기여할 것으로 기대된다”고 했다.

이어 “고객사와의 공동 개발 및 검증을 통해 외사 제품 대비 우수한 경쟁력을 확보했다”고 덧붙였다.

에스앤에스텍은 이미 대구공장에 있던 EUV 용 블랭크 마스크와 펠리클 양산시설을 이전 설치해 가동 중에 있다.

블랭크 마스크 전문 기업 에스앤에스텍은 이번 용인 센터 준공으로 EUV 전용 생산 인프라까지 완성, 그동안 일본 업체가 독점해 왔던 EUV 제품의 국산화에 따른 수입 대체 효과도 기대하고 있다.

향후 본격적인 공급을 시작하게 되면 에스앤에스텍은 확보된 기술력을 기반으로 EUV 라인의 추가 증설과 첨단 양산설비 구축을 단계적으로 추진, 안정적인 공급 역량을 지속적으로 확대할 방침이다.

정수홍 에스앤에스텍 대표는 “용인 EUV 센터는 국가 반도체 경쟁력 확보와 지역사회 기여를 동시에 실현하는 상징적 공간”이라며 “앞으로도 책임 있는 투자와 혁신을 통해 미래 성장을 선도하겠다”고 말했다.

한편, EUV용 블랭크 마스크는 EUV 노광 공정에서 웨이퍼에 회로를 새기는 데 활용되는 패턴 마스크의 원판으로, 나노미터 수준의 얇은 다층막(멀티 레이어) 위에 흡수체인 기반 합금을 다시 적층하는 과정을 거쳐 제작된다.

현재 EUV용 블랭크 마스크와 펠리클은 전량 수입에 의존하고 있다.

정경환 한국금융신문 기자 hoan@fntimes.com