HBM2E는 여러 개 D램을 전극으로 연결해 쌓아 올리는 실리콘관통전극(TSV) 기술이 적용됐다. 기존 와이어 연결 방식 대비 크기는 30%, 전력 소모는 50% 이상 줄어든다는 설명이다. HBM2E는 16GB급 D램이 8개로 연결됐다.
삼성전자와 SK하이닉스는 HBM D램에서 치열한 속도 경쟁을 벌여왔다. 2016년 SK하이닉스가 AMD와 공동으로 개발한 첫 4GB HBM을 양산하자, 이듬해 삼성전자는 보다 성능이 향상된 제품을 내놓았다. 2017~2018년 개발된 8GB급 HBM2 대결에서도 삼성전자가 우세한 양상을 보였다.
오종훈 SK하이닉스 GSM담당 부사장은 "SK하이닉스는 세계 최초로 HBM 제품을 개발하는 등 인류 문명에 기여하는 기술 혁신에 앞장서왔다"며 "이번 HBM2E 본격 양산을 계기로 4차 산업혁명을 선도하고 프리미엄 메모리 시장에서 입지를 강화할 수 있는 기회로 삼을 것"이라고 말했다.
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