이미지 확대보기한화세미텍은 개발을 마친 2세대 하이브리드본더 'SHB2 Nano'를 올해 상반기 중 고객사에 인도해 성능 테스트를 진행할 예정이라고 25일 밝혔다.
하이브리드본더는 인공지능(AI) 반도체 고대역폭 메모리(HBM) 성능과 생산 효율을 끌어올릴 차세대 기술로 소개되고 있다.
칩과 칩을 구리(Cu) 표면에 직접 접합하는 기술로, 16~20단 고적층 HBM도 얇은 두께로 제조가 가능하다. 칩과 칩 사이 범프(Bump·납과 같은 전도성 돌기)가 없어 기존 제품 대비 데이터 전송 속도가 빠르고 전력 소모도 적다.
한화세미텍 'SHB2 Nano'에는 위치 오차범위 0.1μm(마이크로미터) 단위 초정밀 정렬 기술이 적용됐다. 0.1 μm는 머리카락 굵기의 약 1/1000 수준이다.
한화세미텍 관계자는 "첨단 기술 개발에 대한 지속적인 투자로 하이브리드본딩 기술적 난제를 풀고 마침내 제품을 시장 본궤도에 올릴 수 있게 됐다"며 "이번 신기술 개발로 첨단 패키징 시장을 선도할 수 있는 또 다른 발판을 마련했다"고 말했다.
한화세미텍은 하이브리드본더 개발과 함께 TC본더 시장에서 입지도 강화한다는 방침이다.
차세대 HBM 장비 시장 공략을 위한 2세대 TC본더도 개발하고 있다. 올해는 본딩 헤드(head) 크기를 키운 TC본더와 칩과 칩 사이 간격을 줄인 플럭스리스(Fluxless) TC본더 등을 잇달아 선보일 계획이다.
한화세미텍은 신기술 개발을 위한 연구개발(R&D) 투자를 지속적으로 강화해 나간다는 방침이다. 실제 지난해 반도체 관련 R&D 비용은 전년 대비 50% 이상 증가했다.
현재 한화그룹이 추진 중인 인적 분할을 통해 향후 테크 솔루션 부문이 신설 지주사 아래 편입되면, 보다 활발한 R&D 투자와 계열사 간 시너지가 생길 것으로 기대한다.
한화세미텍 관계자는 "첨단 반도체 시장 빠른 변화에 맞춰 선제적 기술 개발에 역량을 집중하고 있다"며 "미래 기술에 대한 지속적인 R&D 투자와 혁신을 통해 독보적 기술력을 갖춘 첨단 반도체 솔루션 기업으로 도약할 것"이라고 말했다.
신혜주 한국금융신문 기자 hjs0509@fntimes.com
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